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PECVD系統(tǒng)

智能型簡易版回轉型

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PECVD系統(tǒng)

更新時間：2025-09-05

型號：

瀏覽量：2006

PECVD系統(tǒng)產品簡介：本設備主要針對實驗石墨烯生長和制備使用，同時該設備可以用于碳納米管的生長?？芍苽涑龈哔|量的透明導電膜,用作手機觸摸屏,平板電腦,智能穿戴,傳感器等領域。
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BTF-1200C-II-SL-400C-PECV前端預熱雙溫區(qū)滑軌PECVD

更新時間：2025-09-04

型號：BTF-1200C-II-SL-400C-PECV

瀏覽量：1624

前端預熱雙溫區(qū)滑軌PECVD： 1.工藝流程簡單。 2.生長溫度更低。 3.實現快速升溫和降溫。 4.輝光均勻等效，均勻生長。
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BTF-1200C-II-AS-500A智能型雙溫區(qū)等離子化學氣相沉積系統(tǒng)

更新時間：2025-09-04

型號：BTF-1200C-II-AS-500A

瀏覽量：2135

智能型雙溫區(qū)等離子化學氣相沉積系統(tǒng) 1.高性能、免維護 2.工藝流程簡單 3.溫度控制精確，操作簡便
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BTF-1200C-RP-PECVD連續(xù)回轉PECVD系統(tǒng)

更新時間：2025-09-04

型號：BTF-1200C-RP-PECVD

瀏覽量：1718

該款設備是全自動Plasma增強CVD系統(tǒng)（PECVD），連續(xù)可控溫度以及Plasma強度等，配備真空系統(tǒng)，可以低壓條件下實現工藝，PECVD系統(tǒng)能使整個實驗腔體都處于輝光產生區(qū)，輝光相對均勻等效，很好的解決了傳統(tǒng)等離子工作不穩(wěn)定狀態(tài)，該設備爐管可360°旋轉，有助于粉料的燒結更均勻，可大角度傾斜，方便進出料，傾斜角度在0-35°之間，所有物料經過的管道都選用非金屬材質，
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BTF-1200C-RP-PECVD連續(xù)進出料等離子體增強回轉設備

更新時間：2025-09-04

型號：BTF-1200C-RP-PECVD

瀏覽量：3366

連續(xù)進出料等離子體增強回轉設備，該款設備是全自動Plasma增強CVD系統(tǒng)（PECVD），爐管可360°旋轉，有助于粉料的燒結更均勻，可大角度傾斜，方便進出料，傾斜角度在0-35°之間，所有物料經過的管道都選用非金屬材質。
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